光學薄膜清洗用超純水設備

光學薄膜清洗用超純水設備在設計上，采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的兩級RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質確保處理后出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用國際主流先進可靠產品，采用PLC控制，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經濟合理。使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。鄭楷環保專業生產二級反滲透＋EDI超純水設備，有多年的生產經驗，尤其在電控系統PLC方面在水處理行業技術都是比較成熟，在LED、LCD、半導體、光學薄膜、光電光學企業的脫鹽水和超純水裝置，得到了業界的廣泛贊譽。

光學薄膜清洗用超純水設備各部件說明：

1.自來水箱：主要解決自來水壓力不穩定的問題，減少提升泵在運行過程中頻繁啟動或受自來水壓力不穩定帶來的機械故障。

2.石英砂過濾器：自來水從罐體上端進入，經過上布水器均勻從濾層上端流向下端。自來水經過濾層后通過下布水器脫離濾層，形成過濾水。

3.活性碳過濾器：活性碳過濾器內部結構成石英砂過濾器完全一樣。經過活性碳吸附后自來水的余氯一般可降到0.1mg/l 以下。

4.軟水器：去除水中的鈣鎂離子，降低水的硬度，為EDI進水創造條件

5.精密過濾器：主要使用5us的熔噴濾芯，可除去細小的顆粒，進一步為反滲透進水創造條件。

6.高壓泵：為反滲透運行提供需要的動力。

7.反滲透系統：反滲透系統是反滲透純水設備的核心部件，在反滲透的設計上主要考濾膜元件的數量、品牌、排列三大問題。

8.純水箱：用于儲存純水

9.EDI提升泵：為EDI提供穩定的壓力

10.EDI系統：將反滲透產水進一步提純，使其電阻值達到15兆歐左右

11.核能混床：將EDI產水電阻值穩定在17兆歐左右，達到用戶用水要求