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光學薄膜清洗用超純水設備在設計上,采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝,確保處理后的超純水水質確保處理后出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用國際主流先進可靠產品,采用PLC控制,全套系統自動化程度高,系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本,水利用率高,運行可靠,經濟合理。
光學薄膜清洗用超純水設備1 型號:zk-ccs
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